2024年陜西光電子先導(dǎo)院科技有限公司涂膠顯影機(jī)(inline)及DUV光刻機(jī)采購(gòu)國(guó)際(2)招標(biāo)


1、招標(biāo)條件
項(xiàng)目概況:采購(gòu)TELLithius型號(hào)涂膠顯影機(jī)(inline)及ASMLXT1400F型號(hào)DUV光刻機(jī)舊設(shè)備，各1臺(tái)
資金到位或資金來(lái)源落實(shí)情況:已落實(shí)
項(xiàng)目已具備招標(biāo)條件的說(shuō)明:已具備
2、招標(biāo)內(nèi)容
招標(biāo)項(xiàng)目名稱(chēng):陜西光電子先導(dǎo)院科技有限公司涂膠顯影機(jī)(inline)及DUV光刻機(jī)采購(gòu)
項(xiàng)目實(shí)施地點(diǎn):中國(guó)陜西省
招標(biāo)產(chǎn)品列表(主要設(shè)備):

序號(hào)產(chǎn)品名稱(chēng)數(shù)量簡(jiǎn)要技術(shù)規(guī)格備注
1TELLithius型號(hào)涂膠顯影機(jī)(inline)舊設(shè)備1臺(tái)Lithius涂膠顯影設(shè)備用于8英寸(200mm)notchwaferinlineArF硅光工藝平臺(tái)光刻制程中的涂膠顯影工藝
2ASMLXT1400F型號(hào)DUV光刻機(jī)舊設(shè)備1臺(tái)ASMLXT1400F設(shè)備用于8英寸(200mm)notchwaferinline193nmArF硅光工藝平臺(tái)，通過(guò)投影成像方式，把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的曝光在涂有膠層的硅片表面實(shí)現(xiàn)光刻制程中的曝光工藝
**信息由招標(biāo)與采購(gòu)網(wǎng)發(fā)布**此行內(nèi)容正式會(huì)員可見(jiàn)，請(qǐng)登錄中國(guó)招標(biāo)與采購(gòu)網(wǎng)后查看**
投標(biāo)人應(yīng)具備的資格或業(yè)績(jī):1)投標(biāo)人：
a.合法注冊(cè)（投標(biāo)人為獨(dú)立法人）
b.如投標(biāo)人非設(shè)備制造廠(chǎng)商，須提供原裝設(shè)備購(gòu)買(mǎi)合同或歸屬權(quán)證明資料，以證明材料須能證明此設(shè)備屬于投標(biāo)人。
c.投標(biāo)人持有開(kāi)戶(hù)銀行在開(kāi)標(biāo)日期前三個(gè)月內(nèi)開(kāi)具的資信證明（境內(nèi)投標(biāo)人由其開(kāi)立基本賬戶(hù)的銀行開(kāi)具）。
d.持有單位負(fù)責(zé)人授權(quán)書(shū)。
2)業(yè)績(jī)要求:近三年（2021年1月起至今）投標(biāo)同類(lèi)產(chǎn)品（至少包含DUV光刻機(jī)設(shè)備）在中國(guó)大陸或港澳臺(tái)地區(qū)具有正常使用業(yè)績(jī)。
是否接受聯(lián)合體投標(biāo):不接受
未領(lǐng)購(gòu)招標(biāo)文件是否可以參加投標(biāo):不可以
4、招標(biāo)文件的獲取
招標(biāo)文件領(lǐng)購(gòu)開(kāi)始時(shí)間:2024-06-26
招標(biāo)文件領(lǐng)購(gòu)結(jié)束時(shí)間:2024-07-03
招標(biāo)文件售價(jià):￥1000/$150
其他說(shuō)明:發(fā)售時(shí)間為工作日，每天8:30-11:30時(shí),13:30-16：30時(shí)止
5、投標(biāo)文件的遞交
投標(biāo)截止時(shí)間（開(kāi)標(biāo)時(shí)間）:2024-07-1710:00


友情提醒：報(bào)名前與下方聯(lián)系人索取投標(biāo)登記表，以及辦理后續(xù)事宜。
聯(lián)系人：郝亮
手機(jī)：13146799092(微信同號(hào))
郵箱：1094372637@qq.com